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那就是成功打破了西方垄断,国产的光刻机再次取得突破,而美国见状也是三番五次的求证真假

2020-07-11  来源:互联网  编辑:小优  阅读人数:61

众所周知,我国在近些年虽然取得了很多实质性的进步,甚至还出现了让人骄傲的一个企业,那就是华为。但由于西方国家对芯片和光刻机的封锁,导致华为也是面临这巨大的,除此之外,一些科技领域也一直处于被封锁的阶段。如今,我国也是传来了好,那就是成功打破了西方垄断,国产的光刻机再次取得突破,而美国见状也是三番五次的求证真假!

那就是成功打破了西方垄断,国产的光刻机再次取得突破,而美国见状也是三番五次的求证真假(图1)

我们都知道,要想研发先进的芯片,那么光刻机是不能缺少的。当华为率先研发出5G的时候,也是让西方国家感到后怕,因为中国的崛起速度已经超乎了他们的想象。而他们为了压制我国的发展,最终也是直接暂停了光刻机和芯片的技术出口。但在这样的情况下,我国一直在光刻机上进行研发,最终也是取得了一些实质性的转变。

那就是成功打破了西方垄断,国产的光刻机再次取得突破,而美国见状也是三番五次的求证真假(图2)

在近段时间,上海微电子技术公司的光刻机也再次取得了实质性的突破,也是成功研发出了22nm的光刻机,然而使用紫外线光源也成功实现了22nm的自程。虽然和西方国家想必还有些差距,但是这让国产的光刻机前进了一大步。

那就是成功打破了西方垄断,国产的光刻机再次取得突破,而美国见状也是三番五次的求证真假(图3)

众所周知,荷兰的ASML的光刻机是最为先进的,由于他们的技术封锁,我国也慢慢在拉近差距,所以相信成功打破他们的封锁,也是时间问题。当美国看到这样的时,也是一脸的不可思议,甚至还三番五次的来求证真假。希望祖国能继续前行,更加的繁荣昌盛,加油!

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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